Klok und Mitarbeiter haben eine Strategie entwickelt, um Polymethylenketten mit hoher Präzision über einen C1-Polyhomologisierungsmechanismus von Oberflächen wachsen zu lassen. Die Strategie basiert auf einem oberflächenverankerten Alkylboronsäure-Pinacolester-Initiator. Es werden Filmdicken von bis zu 400 nm erreicht. So sind Initiatorstellen und damit die Polymerbürsten photostrukturierbar, was zu topologischen Mustern führt. Die endständigen, oberflächenexponierten Gruppen der Ketten lassen sich modifizieren, um die Polymethylenketten durch einen mechanistischen Switch mit verschiedenen Monomeren zu verlängern. Es lassen sich sowohl hydrop...