Das Chemieunternehmen BASF baut in Ludwigshafen eine Anlage für Ammoniumhydroxid Electronic Grade (NH 4 OH EG). Es dient dazu, in der Halbleiterfertigung Wafer zu reinigen und zu ätzen (Foto). Der Betrieb soll im Jahr 2027 starten. Zu den Kosten gibt es keine Informationen. Ammoniumhydroxidlösung zum Reinigen auf einem Wafer. Foto: BASF